Система осаждения частиц с автоматической загрузкой 10 нм TSI MSP 2300G3A-10 NM

Эта полностью автоматизированная система осаждения частиц позволяет осаждать сферы PSL и SiO размером до 10 нм. Калибруйте и квалифицируйте свои инструменты для проверки дефектов с легкостью, уверенностью и эффективностью, производя большие объемы высококачественных стандартных стандартов загрязнения 300 мм и 200 мм . Роботизированная обработка пластин позволяет обрабатывать до 25 пластин за одно контрольное задание, повышая производительность ваших метрологических операций и улучшая выход продукции.

Система осаждения частиц модели 2300G3A обеспечивает лучшую в своем классе производительность для осаждения стандартных размеров частиц (включая стандарты размера MSP NanoSilica ™ ) на голые, пленочные и узорчатые пластины. Используя передовую технологию генерации частиц и дифференциального анализатора подвижности (DMA), 2300G3A контролирует модальный диаметр осаждаемых частиц с субнанометровой воспроизводимостью и прослеживаемостью SI для требовательных метрологических приложений в производстве полупроводников. Благодаря емкости для 16 суспензий частиц и рабочему диапазону режима прямого доступа к памяти от 10 нм до 2 мкм практически любая калибровочная кривая контрольного прибора может быть создана путем осаждения с помощью одного автоматизированного рецепта.

Преимущества

• Полное (одеяло), точечное, дуговое и кольцевое депонирование
• Точный контроль рецептуры размера осаждаемых частиц
• Распыление наночастиц для генерации чистых частиц до 10 нм
• Классификация размера прямого доступа к памяти для выбора распределения узкого размера
• Минимизация кластеров частиц и остаточных частиц
• Рецептный контроль ширины рисунка отложений
• Отчеты об анализе рецептуры, осаждения и суспензии
• Эргономичный дизайн
• Сервис и поддержка по всему миру